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全自動濺射鍍膜機(jī)
一、設(shè)備簡介
1.預(yù)備室:可同時裝納10片鍍膜夾具(最多每膜4片載盤)。
2.真空槽:準(zhǔn)備室，濺射室，基板加熱絲，溫度探頭，載盤移動機(jī)構(gòu)，真空排氣機(jī)構(gòu)，濺射室內(nèi)部防護(hù)板，陰極防護(hù)板(Cr，Ar用)，擴(kuò)散防護(hù)板(Cr，Ar用)。
3.濺射系統(tǒng):陰極電極(外置式磁控陰極)，DC電源，DC電源切換器。
靶材尺寸(壓條式):
126mm*178mm*6mm(低效靶材)
126mm*178mm*7mm（高效靶材）
4.基板加熱系統(tǒng):準(zhǔn)備室:鹵素?zé)艏訜?KW-1.5KW，濺射室:脫氣加熱功能。
5.基板加熱能力:150度。
6.具備電清洗DC轟擊功能。
7.節(jié)拍,傳輸速度:鍍膜時 1-75mm/s(根據(jù)提供膜厚可進(jìn)行設(shè)定)
循環(huán)節(jié)拍:
使用測試搬運模式,測定各貨架成膜后返回到貨架柜的時間，將該時間作為貨架間的1個時間周期。4分30秒/循環(huán)（1膜）
設(shè)定條件:
01:Cr濺射搬運速度 30 mm/sec
02:Ag濺射搬運速度5mm/sec
03:移動速度75 mm/sec
二、設(shè)備特點
本設(shè)備由準(zhǔn)備室，預(yù)備室 ，濺鍍室，抽真空系統(tǒng)，濺射鍍膜系統(tǒng)，基板加熱裝置構(gòu)成。準(zhǔn)備室：可同時裝納10組鍍膜夾具（每膜3-4片Mask載盤）。預(yù)備室對基板加熱能力達(dá)到150度，濺鍍室：含陰極電極（Cr，Ag用）2片/陰極，DC電源，DC電源切換器，真空系統(tǒng)：渦輪分子泵; 2 套，施轉(zhuǎn)式油泵; 2 套組成。具備氬離子電轟擊功能。
三、設(shè)備參數(shù)(通用型)
| 設(shè)備參數(shù) | ||||||
| 項目 | 單位 | 參數(shù) | ||||
| 極限真空 | Pa | 5.0*10-4[Pa] | ||||
| 適用靶材 | Ag、Cr、Au、Cu | |||||
| 成膜晶片散差 | ±500PPM（中頻） | |||||
| 高效靶材適用時間 | min | ≥3500分鐘 | ||||
| 靶材使用效率 | ＞42% | |||||
| 月產(chǎn)能 | 1000-1500萬 | |||||
| 供電電源 | 3φ，AC380V，50/60HZ | |||||
服務(wù)熱線
地址：天津濱海高新區(qū)塘沽海洋科技園新北路4668號創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園30-A號廠房一層局部和西二層
官方手機(jī)站
022-66262964 
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